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国内首款12英寸多晶碳化硅衬底问世

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AI 综述

2026年10月29日,湖南泰坦未来科技有限公司推出国内首款12英寸多晶碳化硅衬底。该产品已通过台积电认证测试并向三星送样,主要解决AI芯片与先进封装的散热问题。产品沉积速度达每小时60微米,最低电阻率小于1毫欧·厘米,孔洞缺陷少于每平方厘米0.1个,预计2027年后逐步规模化供货。

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10月29日
  1. IT之家
    湖南泰坦未来推出国内首款12英寸多晶碳化硅衬底

    湖南泰坦未来科技有限公司推出国内首款12英寸多晶碳化硅衬底,该产品已通过台积电认证测试并向三星送样,主要解决AI芯片与先进封装的散热问题。产品沉积速度达每小时60微米,最低电阻率小于1毫欧·厘米,孔洞缺陷少于每平方厘米0.1个,预计2027年后逐步规模化供货。

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