三星电子蚀刻工艺配方泄露
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三星电子蚀刻工艺配方泄露
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AI 综述
2026年下半年,三星电子发现其半导体蚀刻工艺配方被泄露至美国半导体设备厂商泛林半导体的韩国业务部门。三星电子通过监测发现,泛林韩国分公司存在多次未授权的数据传输行为。这些工艺配方记录了设备温度、压力、气体流量、处理时长等生产条件参数,属于承载半导体厂商独有工艺的核心技术资料。三星电子于今年下半年察觉该事件,目前尚未公布后续处理措施。
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最新进展11月9日 15:12
三星电子蚀刻工艺配方泄露至泛林半导体韩国分公司报道时间线
沿着报道,了解事件的不同侧面。
11月9日
- IT之家三星电子蚀刻工艺配方泄露至泛林半导体韩国分公司
三星电子的半导体蚀刻工艺配方被泄露至美国半导体设备厂商泛林半导体的韩国业务部门。三星电子于今年下半年察觉该事件,发现泛林韩国分公司通过不合规申请多次发生未授权的数据传输行为。工艺配方记录着设备温度、压力、气体流量、处理时长等生产条件参数,属于承载半导体厂商独有工艺的核心技术资料。
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