上海微电子新一代光刻机模型亮相

2026年11月8日，上海微电子在进博会上展示自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。该设备已实现全链条自主可控，成像性能与国际同类产品相当，设备有效运行率超92%，累计支持产线流片超千万片。这是上海微电子在光刻机自主化道路上的阶段性成果展示。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。