光刻机厂商集体扩产并提价，2029-2030年需求已开始询盘

佳能宣布明年半导体光刻设备产量最高将接近今年的两倍；ASML披露客户对2027年、2028年的设备需求已超过现有扩产计划，并开始询问2029年、2030年的供货；尼康推出数字光刻设备DSP-110并启动0.5 μm数字光刻系统研发；通快预计2026/27财年EUV业务订单和收入都将实现两位数增长；JSR韩国工厂竣工，加强金属氧化物光刻胶供应。